УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ РОССИЙСКОГО ПРОИЗВОДСТВА
Преимущества установки
Установка СИДМЭЛ SAME200 отвечает современным российским ГОСТам: ГОСТ МЭК 60204-1-2007, ГОСТ 30804.6.1-2013 (IEC 61000-6-1:2005), ГОСТ 30804.6.3-2013 (IEC 61000-6-3:2006).
Программное обеспечение имеет простую и понятную логику. Обучение работе на установке не требует длительного времени.
Программное обеспечение имеет простую и понятную логику. Обучение работе на установке не требует длительного времени.
Вернуться назад
Особенности установки
Установка СИДМЭЛ SAME200 разработана для исследований в области микроэлектроники. Важную роль в конструкции занимают безопасность использования и удобный функционал, обеспечивающий надежный, управляемый процесс травления.
- Контролируемый, повторяемый процесс
- Управление мощностью источника;
- Точный контроль подачи газов;
- История аварийных сообщений,
- Контроль рецептов в процессе работы;
- Запись параметров процессов.
- Простота управления, использования, обслуживания
- Сенсорный экран;
- Сохранение рецептов травления;
- Простой и понятный интерфейс;
- Эргономичный дизайн;
- Подстройка дисплея;
- Управление на ПК с Windows на руccком языке.
- Безопасность
- Отсутствие опасных химикатов;
- Более экологичный метод по сравнению с кислотным травлением;
- Не требуют специальных средств индивидуальной защиты.
- Широкий спектр применения
- Работа с широким спектром пластиковых корпусов;
- Единственное решение для серебряных разварочных выводов;
- Травление образцов со всеми типами проводов.
Преимущества применения
Обеспечивает безопасное и надежное травление различных пластиковых корпусов с любыми типами проволочных соединений
МАТЕРИАЛЫ ТРАВЛЕНИЯ
- ОКСИД КРЕМНИЯ
- РЕЗИСТЫ
- ПОЛИИМИДЫ
- ЭПОКСИДНЫЕ СМОЛЫ
ПРОВОЛОЧНЫЕ СОЕДИНЕНИЯ
- ЗОЛОТЫЕ
- МЕДНЫЕ
- СЕРЕБРЯНЫЕ
Технические характеристики
Основной блок, (ВхШхГ) мм - 1400 х 580 х 580 мм;
Реакционная камера - диаметр 200 мм, 120 мм;
Максимальные размеры образца - диаметр 160 мм, высота 80мм;
Область травления (по центру) - 15мм х 15мм.
Реакционная камера - диаметр 200 мм, 120 мм;
Максимальные размеры образца - диаметр 160 мм, высота 80мм;
Область травления (по центру) - 15мм х 15мм.
Питание установки - 220 В, 1ф, 50/60Гц, 6А.
Аргон (Ar), кислород (O2), азот (N2), тетрафторид углерода (CF4) -
давление 1 - 2 бар, регулировка расхода газа: 0-200 мл/мин;
Сжатый воздух - давление 8 бар, расход: 50 л/мин.
давление 1 - 2 бар, регулировка расхода газа: 0-200 мл/мин;
Сжатый воздух - давление 8 бар, расход: 50 л/мин.
Мощность (регулируемая) - 0-200 Вт;
Частота - 2.4 – 2.5 ГГц;
Удаленное управление генератором - есть.
Частота - 2.4 – 2.5 ГГц;
Удаленное управление генератором - есть.
Тип источника - Surface Wave plasma source;
Типы материалов для травления - диэлектрики: оксид кремния; полимеры: резисты, полиимиды, эпоксидные смолы;
Время травления - определяется пользователем;
Скорость травления - от 10 мкм/мин;
Количество запрограммированных рецептов - возможность создавать собственные рецепты травления. Количество не ограничено.
Типы материалов для травления - диэлектрики: оксид кремния; полимеры: резисты, полиимиды, эпоксидные смолы;
Время травления - определяется пользователем;
Скорость травления - от 10 мкм/мин;
Количество запрограммированных рецептов - возможность создавать собственные рецепты травления. Количество не ограничено.
Сенсорный русскоязычный интерфейс на основе тачскрина
Операционная система Windows 10
Операционная система Windows 10
Система экстренного отключения.
Источник плазмы имеет водяное охлаждение с рециркуляционной охладительной системой;
Опционально, предусмотрена система водяного и воздушного охлаждения.
Опционально, предусмотрена система водяного и воздушного охлаждения.
Тип загрузки камеры - открытая
Другие услуги
Помимо производства установок плазмохимического травления, компания занимается исследованиями в микроэлектронике и разрабатывает сопутствующее оборудование для исследовательских целей.
Хотели бы посмотреть, как работает оборудование? Договоритесь с нашими инженерами о персональной демонстрации прибора. Для этого отправьте свои контактные данные. Мы свяжемся с Вами!
Вы также можете позвонить нам по тел. +7 495 266 69 28 или написать на почту info@sidmel.ru.
Вы также можете позвонить нам по тел. +7 495 266 69 28 или написать на почту info@sidmel.ru.
Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности
ООО "СИДМЭЛ"
КОНТАКТЫ
Телефон
+7 495 266 69 28
Юр.адрес
121205, Г МОСКВА, ВН.ТЕР.Г. МУНИЦИПАЛЬНЫЙ ОКРУГ МОЖАЙСКИЙ, ТЕР СКОЛКОВО ИННОВАЦИОННОГО ЦЕНТРА, Б-Р БОЛЬШОЙ, ДОМ 42 СТРОЕНИЕ 1, ЭТАЖ/ПОМЕЩ./РМ 4/117/2
E-mail
info@sidmel.ru